紫外臭氧清洗机（桌面 & 生产型）

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紫外臭氧清洗机的产品阵容

针对科研和生产，莎姆克提供多种型号的紫外臭氧清洗机。我们的系统配备了基座加热器和臭氧发生器，与传统的紫外线臭氧清洗机相比，拥有卓越的工艺性能。
紧凑的桌面紫外线臭氧清洗机在空间有限的实验室对样品的制备非常有帮助。我们的直开式紫外臭氧系统可处理300 mm的晶圆，相对于一般的等离子清洗，具有较低的物理离子和电荷损伤的优点。对于生产的客户，可提供装片盒到装片式（Cassette-to-Cassette）系统。

桌面型
紫外臭氧清洗机

桌面型紫外臭氧清洗机

UV-1，UV-2和UV-300都是简单紧凑的紫外臭氧清洗机，可以容纳各种形状大小的样品。该系统占地面积小且易于操作，组合利用紫外线、臭氧和加热，温和有效地从各种基材上去除有机物，包括硅、砷化镓、蓝宝石、金属、陶瓷、石英和玻璃。
该系统适用多种应用，如基板清洗、光刻胶残渣清除，亲水性提高，表面活化和紫外光固化。UV-1, UV-2 和 UV-300可在常压下操作，这样消除了笨重、高维护成本的真空系统，且不会损坏精密的电子器件。

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直开式
紫外臭氧清洗机

直开式紫外臭氧清洗机

UV-300H是一款300毫米的紫外臭氧系统，它包括了所有桌面系统的特点。通过滑动抽屉将基板装载到系统中，并且载台和臭氧进气口之间的间隙可从1毫米到11毫米手动调节，从而使工艺最优。
这种高性能的装置使得光刻胶的灰化速率高达500 nm/min，并配备的许多安全功能，保护操作员和系统。UV-300H可在常压下操作，不需要单独的真空系统。

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大气装片式
紫外臭氧清洗机

大气装片式紫外臭氧清洗机

为满足产量提升要求，UV-300HC是一个全自动的装片盒系统，包括一个带280 mm的载台的紫外臭氧腔体，大气环境的机械手，两个装片盒。装片盒可放下200mm的晶圆，或批量处理用托盘。UV-300H 的载台和臭氧进气口之间的间隙可从1毫米到11毫米进行手动调节，从而使工艺最优。
可选带有冷却和加热的功能的载台以增加产量。

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工艺实例

莎姆克紫外臭氧清洗机可应用于多个领域，如器件制造、材料科学、生物化学和分子生物学的研究。

· 表面清洗
· 器件封装中引线架和焊盘的清洗
· 表面改质
· 表面活化
· 亲水性控制
· 粘接性能的改善
· 表面氧化（沉积薄氧化层）
· 有机污染物的去除
· 光刻胶灰化
· 紫外固化, 除气和光刻胶的坚膜

紫外臭氧用于聚合物长期稳定的表面改质

聚合物微流芯片是种新兴技术，使诊断变的快速且低成本。用于一次性器件制造的聚合物材料通常是疏水性的，因此需要表面处理纳米通道来得到稳定液体流动。
O2等离子被广泛应用于材料的亲水性的改善，但众所周知等离子体处理后疏水性恢复很快。COP样品在氧等离子体或紫外线臭氧中进行处理，然后测量分析之后180天的水接触角。

O2等离子体处理的COP样品显示疏水性明显的恢复，但样品在紫外臭氧清洗机的载台加热和臭氧气流处理后180天显示出稳定的亲水表面。这一结果表明载台加热和高浓度臭氧气流，是莎姆克紫外臭氧清洗机的主要特点，对于聚合物长期稳定的表面改质非常有效。

不仅对于COP，我们也有其它聚合物如PMMA ，COC 和 PEEK长期稳定的亲水性改质面的工艺，这些材料常用于微流芯片和医疗器件。了解更多关于我们的工艺细节，请与我们联系。

紫外臭氧用于聚合物长期稳定的表面改质

O2等离子体或紫外臭氧处理后样品接触角的变化

规格表

桌面式紫外臭氧清洗机 直开式紫外臭氧清洗机 大气装片盒式紫外臭氧清洗机
装片方式 手动 双片盒用于高产量
样品尺寸 150/200/300 mm 高达300 mm 高达240 mm
基座加热 高达300°C
系统特色 臭氧发生器产生高浓度臭氧

常压下工作

臭氧去除器

一键式自动操作
选项 UL认证和CE 标志 旋转基座 加热或冷却台用于处理前后
应用 光刻胶灰化

各种材料的表面改质
与等离子体处理相比，基板没有电荷和物理损伤

封装之前表面的清洗

油墨去除

系统特点

载台加热，臭氧发生器

载台加热，臭氧发生器

载台加热和附加的臭氧发生器提高了光刻胶的刻蚀速率。

旋转的载台

旋转的载台

旋转的载台可提高样品刻蚀均匀性。

双片盒

双片盒

双片盒可提高产量。

客户证明

莎姆克紫外清洗机用于最先进纳米实验室器的研制，包括

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